|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Erratum to “Atomic-scale theory on degradation of HfSiON gate stacks by atomic hydrogen accompanied by its interaction with oxygen vacancy and substitutional nitrogen” [Microelectron. Eng. 88 (7) (2011) 1457–1460] |
| Auteur: |
Nakasaki, Yasushi Hirano, Izumi Kato, Koichi Mitani, Yuuichiro |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 88 (2011) nr. 11 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |