|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 30 gevonden artikelen
| Titel: |
CHF3–O2 reactive ion etching of 4H-SiC and the role of oxygen |
| Auteur: |
Xia, J.H. Rusli, Choy, S.F. Gopalakrishan, R. Tin, C.C. Yoon, S.F. Ahn, J. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 83 (2006) nr. 2 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 30 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |