|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 71 van 130 gevonden artikelen
| Titel: |
Improving the resistance of PECVD silicon nitride to dry etching using an oxygen plasma |
| Auteur: |
Hicks, S.E. Murad, S.K. Sturrock, I. Wilkinson, C.D.W. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 35 (1997) nr. 1-4 pagina's 41-44 |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 71 van 130 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |