|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 67 van 130 gevonden artikelen
| Titel: |
Highly sensitive resist material for deep X-ray lithography |
| Auteur: |
Schenk, R. Halle, O. Müllen, K. Ehrfeld, W. Schmidt, M. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 35 (1997) nr. 1-4 pagina's 105-108 |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 67 van 130 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |