|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 56 van 183 gevonden artikelen
| Titel: |
Electron beam lithography of HSQ/PMMA bilayer resists for negative tone lift-off process |
| Auteur: |
Yang, Haifang Jin, Aizi Luo, Qiang Li, Junjie Gu, Changzhi Cui, Zheng |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 5-6 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 56 van 183 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |