|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 180 van 183 gevonden artikelen
| Titel: |
Towards 2–10nm electron-beam lithography: A quantitative approach |
| Auteur: |
Sidorkin, V. van Run, A. van Langen-Suurling, A. Grigorescu, A. van der Drift, E. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 5-6 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 180 van 183 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |