|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 172 van 183 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of direct PAG incorporation into the polymer main chain on reactive ion etch resistance of 193nm and EUV chemically amplified resists |
| Auteur: |
Lee, Cheng-Tsung Henderson, Clifford L. Wang, Mingxing Gonsalves, Kenneth E. Yueh, Wang Roberts, Jeanette M. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 5-6 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 172 van 183 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |