|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 58 van 187 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of wet chemical substrate pretreatment on the growth behavior of Ta(N) films deposited by thermal ALD |
| Auteur: |
Strehle, S. Schumacher, H. Schmidt, D. Knaut, M. Albert, M. Bartha, J.W. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 10 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 58 van 187 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |