|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 187 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of low-k SiOCH dielectric for 45nm technology and link between the dominant leakage path and the breakdown localization |
| Auteur: |
Vilmay, M. Roy, D. Volpi, F. Chaix, J.-M. |
| Verschenen in: |
Microelectronic engineering |
| Paginering: | Jaargang 85 (2008) nr. 10 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 187 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |