|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 78 van 124 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimisation of process parameters for electroless plating of Co–W–P capping layers from an alkali-metal-free bath |
| Auteur: |
Kim, Tae Ho Dulal, S.M.S.I. Park, Chang Han Chae, Heeyeop Kim, Chang-Koo |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 202 (2008) nr. 19 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 78 van 124 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |