|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 55 gevonden artikelen
| Titel: |
Charge transfer resistance of copper and nickel thin film electrodes in nano dimensions |
| Auteur: |
Wang, Shulan Li, Jiulong Zhang, Rongxia Li, Li |
| Verschenen in: |
Materials letters |
| Paginering: | Jaargang 198 (2017) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 55 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |