|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Prospective development in diffusion barrier layers for copper metallization in LSI |
| Auteur: |
Wong, H.Y. Mohd Shukor, N.F. Amin, N. |
| Verschenen in: |
Microelectronics journal |
| Paginering: | Jaargang 38 (2007) nr. 6-7 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |