|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 94 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of flow rate on reactive ion etching of GaAs in CH4/H2 plasma |
| Auteur: |
Sahafi, HF Goldspink, GF Webb, AP Carter, MA |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 44 (1993) nr. 3-4 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
1993 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 94 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |