|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 140 van 140 gevonden artikelen
| Titel: |
Width dependence of the effectiveness of reservoir length in improving electromigration for Cu/Low-k interconnects |
| Auteur: |
Fu, C.M. Tan, C.M. Wu, S.H. Yao, H.B. |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 50 (2010) nr. 9-11 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 140 van 140 gevonden artikelen
| << vorige |