Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 28 van 37 gevonden artikelen
 
 
  Reduction of boron penetration through thin silicon oxide with a nitrogen doped silicon layer
 
 
Titel: Reduction of boron penetration through thin silicon oxide with a nitrogen doped silicon layer
Auteur: Jalabert, L.
Temple-Boyer, P.
Sarrabayrouse, G.
Cristiano, F.
Colombeau, B.
Voillot, F.
Armand, C.
Verschenen in: Microelectronics reliability
Paginering: Jaargang 41 (2001) nr. 7 pagina's 5 p.
Jaar: 2001
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Science Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 28 van 37 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland