|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of substituting SiO2 ILD by low k materials into AlCu RIE metallization |
| Auteur: |
Weber, D Höhnsdorf, F Hausmann, A Klipp, A Stavreva, Z Herrmann, J Bauch, L Neef, M.Junack, H Nichterwitz, M Finsterbusch, S Liebmann, R Kallis, N Kieslich, A |
| Verschenen in: |
Microelectronics reliability |
| Paginering: | Jaargang 41 (2001) nr. 7 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2001 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |